真空是一種依靠等離子體活性物質(zhì)去除表面污漬的清洗設(shè)備。屬于電子行業(yè)干洗。在真空泵的制造過(guò)程中，為了滿足清洗的需要，制造了一定的真空條件。等離子體清洗主要需要通過(guò)特定氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合，如低壓氣體輝光。

　　簡(jiǎn)而言之，真空等離子清洗機(jī)需要在真空(通常在100Pa左右)下進(jìn)行，因此需要一臺(tái)真空泵。主要工藝包括：先將工件固定在真空室中，啟動(dòng)真空泵等設(shè)備的真空放電至10Pa左右;然后將等離子清洗氣體引入真空室(根據(jù)氧、氫、氬、氮等不同的清洗材料)，保持壓力在100Pa左右;

　　在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間加高頻電壓，使氣體滲透到等離子體中，等離子體完全被真空室覆蓋后，清洗過(guò)程將持續(xù)幾十秒到幾分鐘。整個(gè)過(guò)程依賴于等離子體在電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)和對(duì)被處理物體表面的轟擊。大多數(shù)物理清洗過(guò)程需要高能量和低壓力。

　　原子和離子的最大速度是在表面被轟擊之前達(dá)到的。因?yàn)樗鼘⒓铀俚入x子體，它需要高能量，所以等離子體中的原子和離子可以更快。低壓是增加原子碰撞前平均距離的必要條件，即平均自由距離越長(zhǎng)，路徑越長(zhǎng)，離子轟擊待清洗表面的概率越高。因此，實(shí)現(xiàn)了表面處理、清洗和蝕刻的效果(清洗過(guò)程在一定程度上是一個(gè)輕微的蝕刻過(guò)程)，清洗后，污物和氣體排出，空氣恢復(fù)到正常大氣壓。

　　清洗過(guò)程中，真空泵控制真空室時(shí)，氣體流量決定真空室的發(fā)光顏色：顏色重，真空度低，氣體流量大;真空度過(guò)高，氣體流量過(guò)小，真空泵的真空度根據(jù)需要的處理效果確定。是一種適合于單片電路、集成電路清洗的等離子清洗機(jī)。它可用于清潔半導(dǎo)體、厚膜電路、預(yù)包裝元件、硅蝕刻、真空電子、連接器和繼電器。還可用于塑料、橡膠、金屬、陶瓷等材料的表面活化及科學(xué)實(shí)驗(yàn)。